L-espożizzjoni tal-maskra tal-istann u l-proċess ta ‘żvilupp fil- Bord tal-PCB il-proċess tal-manifattura huwa bord tal-PCB b’maskra tal-istann wara l-istampar tal-iskrin. Għatti l-pads fuq il-bord tal-PCB b’film diazo sabiex ma jiġux irradjati bid-dawl ultravjola matul il-proċess ta ‘espożizzjoni, u s-saff ta’ protezzjoni li jirreżisti l-istann ikun imwaħħal b’mod aktar sod mal-wiċċ tal-PCB wara l-irradjazzjoni tad-dawl ultravjola, u l-pads ma jkunux esposti. għad-dawl ultravjola. L-irradjazzjoni ħafifa tista ‘tesponi l-pads tar-ram sabiex iċ-ċomb u l-landa jkunu jistgħu jiġu applikati waqt il-livellar tal-arja sħuna.

L-iskop tal-espożizzjoni tal-bord taċ-ċirkwit huwa li tirradja u timblokka b’dawl ultravjola. Il-parti trasparenti tal-film u l-film niexef jgħaddu minn reazzjoni ta ‘polimerizzazzjoni ottika, jiġifieri, taħt irradjazzjoni tad-dawl ultravjola, il-fotoinizjatur jassorbi l-enerġija tad-dawl u jiddekomponi f’radikali ħielsa, u r-radikali ħielsa jerġgħu jibdew id-dawl. Il-monomeru polimerizzat jgħaddi minn reazzjoni ta ‘polimerizzazzjoni u cross-linking, u jifforma struttura makromolekulari li ma tinħallx f’soluzzjoni alkali dilwita wara r-reazzjoni. Il-film huwa kannella, id-dawl ultravjola ma jistax jippenetra, u l-film ma jistax jgħaddi minn polimerizzazzjoni ottika bil-film niexef korrispondenti tiegħu. L-espożizzjoni ġeneralment titwettaq f’magna awtomatika ta ‘espożizzjoni b’żewġ naħat.

Hemm żewġ tipi ta ‘espożizzjoni: espożizzjoni taċ-ċirkwit u espożizzjoni tal-maskra tal-istann. Il-funzjoni hija li tfejjaq iż-żona lokali irradjata permezz ta ‘irradjazzjoni tad-dawl ultravjola, u mbagħad tiżviluppaha biex tifforma mudell ta’ ċirkwit jew mudell ta ‘reżistenza għall-istann.

Il-proċess ta ‘espożizzjoni taċ-ċirkwit huwa li tpoġġi film fotosensittiv fuq il-bord miksi bir-ram, u mbagħad poġġih flimkien mal-mudell taċ-ċirkwit negattiv u jesponih b’raġġi ultravjola. Il-film fotosensittiv irradjat minn raġġi ultravjola se jgħaddi minn reazzjoni ta ‘polimerizzazzjoni. Il-film fotosensittiv hawn jista ‘jirreżisti Na2CO3 alkali dgħajfa matul l-iżvilupp. Is-soluzzjoni tinħasel, u l-parti mhux sensitizzata se tinħasel waqt l-iżvilupp. B’dan il-mod, il-mudell taċ-ċirkwit fuq il-film negattiv jiġi trasferit b’suċċess għall-bord miksi bir-ram;

Il-proċess ta ‘espożizzjoni tal-maskra tal-istann huwa l-istess: applika żebgħa fotosensittiva fuq il-bord taċ-ċirkwit, u mbagħad ikopri ż-żoni li jeħtieġ li jiġu ssaldjati waqt l-espożizzjoni, sabiex il-pads ikunu esposti wara l-iżvilupp.