Ki pwosesis plating pou PCB?

Ki pwosesis plating pou PCB?

The electroplating process of kous Komisyon Konsèy ka apeprè klase nan asid klere kòb kwiv mete galvanoplastik, galvanoplastik nikèl / lò ak galvanoplastie fèblan.

Liy PLATING

1, Klasifikasyon nan pwosesis galvanoplastie:

Asid klere kòb kwiv mete galvanoplastik nikèl / lò galvanoplastie fèblan

2, koule Pwosesis:

Marinated → plating kòb kwiv mete sou tablo a tout antye → transfè modèl → degrese asid → segondè rense kont kouran → mikwo grave → segondè → marinated → fèblan plating → segondè rense kont kouran

Countercurrent rinsing → acid dipping → graphic copper plating → secondary countercurrent rinsing → nickel plating → secondary water washing → citric acid dipping → gold plating → recovery → 2-3-stage pure water washing → drying

3, Deskripsyon Pwosesis:

（1） marinated

① Wòl ak objektif:

Retire oksid la sou sifas plak la epi aktive sifas plak la. Anjeneral, konsantrasyon an se 5%, ak kèk yo kenbe nan apeprè 10%, sitou yo anpeche dlo a pote nan ak sa ki lakòz kontni an enstab asid silfirik nan likid la tank;

② The acid leaching time should not be too long to prevent oxidation of the plate surface; After use for a period of time, if the acid solution is turbid or the copper content is too high, it shall be replaced in time to prevent contamination of the plated copper cylinder and plate surface;

③ CP asid silfirik dwe itilize isit la;

（2） Full plak kwiv plating: ke yo rele tou kwiv prensipal, elektrisite plak, panèl PLATING ① fonksyon ak objektif:

Pwoteje kwiv la chimik mens jis depoze, anpeche kwiv la chimik nan men yo te grave pa asid apre oksidasyon, epi ajoute li nan yon sèten limit pa galvanoplastie

Parameters Paramèt pwosesis ki gen rapò ak plating kòb kwiv mete sou plak la tout antye: se solisyon an beny sitou ki konpoze de silfat kwiv ak asid silfirik. Se fòmil la nan asid segondè ak kwiv ki ba adopte asire inifòmite nan distribisyon epesè plak ak gwo twou san fon kapasite plating pou twou gwo twou san fon pandan galvanoplastie; Kontni an asid silfirik se sitou 180 g / L, ak pi fò nan yo rive nan 240 g / L; Kontni an nan silfat kwiv se jeneralman sou 75 g / L. nan adisyon, se yon ti kantite ion klori ajoute nan likid la tank kòm yon ajan oksilyè enteprete ak ajan enteprete kwiv yo jwe efè a enteprete ansanm; Kantite lajan an adisyonèl oswa kantite silenn ouvèti an kwiv Polonè se jeneralman 3-5ml / L. se adisyon a nan kwiv Polonè jeneralman complétée dapre metòd la nan èdtan kiloampere oswa selon efè pwodiksyon aktyèl la; Aktyèl la nan plak la antye galvanoplastik jeneralman kalkile nan miltipliye 2 A / kare desimèt pa zòn nan galvanoplastik sou plak la. Pou plak la an antye, li se longè plak la DM × Plak lajè DM × de × 2A / DM2 temperature Tanperati silenn kwiv la konsève nan tanperati chanm, jeneralman pa plis pase 32 degre, sitou kontwole nan 22 degre. Se poutèt sa, akòz tanperati a wo nan sezon lete, li rekòmande enstale yon sistèm kontwòl tanperati refwadisman pou silenn kwiv la;

③ Pwosesis antretyen:

Ranpli poli kwiv nan tan dapre èdtan kiloampere chak jou, epi ajoute li selon 100-150ml / Kah; Tcheke si ponp lan filtre travay nòmalman ak si gen flit lè; Netwaye baton kondiktif katod la avèk yon twal mouye pwòp chak 2-3 èdtan; Sa ki nan silfat kwiv (yon fwa pa semèn), asid silfirik (yon fwa pa semèn) ak ion klori (de fwa nan yon semèn) nan silenn kwiv la dwe analize regilyèman chak semèn, kontni an nan klere dwe ajiste nan tès selil Hall, ak enpòtan matyè premyè yo pral complétée nan tan; Netwaye baton an kondiktif anod ak konektè elektrik yo nan tou de bout nan tank la chak semèn, ranplir boul an kwiv anod nan panyen an Titàn nan tan, ak elektwoliz ak aktyèl ki ba 0.2-0.5 ASD pou 6-8 èdtan; Tcheke si sak la panyen Titàn nan anod domaje chak mwa, epi ranplase li nan tan; Tcheke si labou anod akimile nan fon an nan panyen anod Titàn, epi netwaye li nan tan si genyen; Nwayo Kabòn te itilize pou filtraj kontinyèl pou 6-8 èdtan, ak enpurte yo te retire pa ba elektwoliz aktyèl an menm tan an; Chak mwatye nan yon ane oswa konsa, detèmine si wi ou non gwo-echèl tretman (aktive poud kabòn) oblije selon polisyon nan tank likid; Ranplase eleman filtre ponp filtre chak de semèn;

④ Gwo pwosedi tretman an: A. pran anod la, vide anod lan, netwaye fim anod la sou sifas anod lan, epi mete l nan anbalaj barik anod kwiv la. Roughen sifas kwen kòb kwiv mete a inifòm woz ak mikwo etchant. Aprè lave epi siye, mete l nan panyen Titàn lan epi mete l nan tank asid la pou sibstiti. B. tranpe panyen an anod Titàn ak sak anod nan 10% solisyon alkalin pou 6-8 èdtan, lave epi sèk avèk dlo, ak Lè sa a, tranpe nan 5% asid silfirik delye, Lave epi sèk avèk dlo pou sibstiti; C. Transfere likid la tank nan tank la sibstiti, ajoute 1-3ml / L 30% oksijene idwojèn, kòmanse chofaj, vire sou lè brase lè tanperati a se sou 65 ℃, ak brase ak izole lè pou 2-4 èdtan; D. Fèmen lè a vibran, tou dousman fonn poud lan kabòn aktive nan solisyon an tank nan vitès la nan 3-5g / L, vire sou lè a brase apre yap divòse a fini, epi kenbe li cho pou 2-4 èdtan; E. Fèmen lè a vibran, chofe epi kite poud lan kabòn aktive rezoud nan pati anba a nan tank la tou dousman; F. Lè tanperati a desann nan apeprè 40 ℃, sèvi ak 10um PP eleman filtre ak filtre èd poud filtre likid la tank nan tank la netwaye k ap travay, vire sou lè vibran, mete anod la, pann l ‘nan plak la elektwolitik, ak elektwoliz nan ba aktyèl selon 0.2-0.5asd dansite aktyèl pou 6-8 èdtan. G. ajiste kontni an nan asid silfirik, silfat kwiv ak ion klori nan tank la nan seri a operasyon nòmal apre analiz laboratwa; Ranplase klere a selon rezilta tès selil Hall yo; H. Apre koulè plak la inifòm, elektwoliz la ka sispann, ak Lè sa a, fim nan elektwolitik trete pou 1-2 èdtan selon dansite aktyèl la nan 1-1.5asd. Yon kouch fim fosfò nwa ak inifòm adezyon dans fòme sou anod la; 1. Tès plating OK;

⑤ The anode copper ball contains 0.3-0.6% phosphorus. The main purpose is to reduce the anode dissolution efficiency and reduce the production of copper powder;

⑥ When replenishing drugs, if the amount is large, such as copper sulfate and sulfuric acid; Low current electrolysis shall be conducted after addition; Pay attention to safety when adding sulfuric acid. When the amount of sulfuric acid is large (more than 10 liters), add it slowly several times; Otherwise, the temperature of the bath liquid will be too high, the photocatalyst decomposition will be accelerated, and the bath liquid will be polluted;

⑦ Atansyon espesyal yo dwe peye sipleman an nan ion klori, paske kontni an ion klori se patikilyèman ba (30-90ppm), li dwe peze avèk presizyon avèk yon silenn mezire oswa tas mezire anvan ou ajoute; 1ml asid idroklorik gen sou ion klori 385ppm,

Formula Fòmil kalkil adisyon dwòg:

Silfat kwiv (kg) = (75-x) × Volim tank (L) / 1000

Sulfuric acid (in liters) = (10% – x) g / L × Tank volume (L)

Or (in liters) = (180-x) g / L × Tank volume (L) / 1840

Hydrochloric acid (ML) = (60-x) ppm × Tank volume (L) / 385

（3） Asid degrese

① Objektif ak fonksyon: retire oksid la sou sifas kòb kwiv mete nan liy lan, fim rezidyèl nan lank ak lakòl rezidyèl, epi asire adezyon ki genyen ant kwiv prensipal ak modèl galvanoplastik kòb kwiv mete oswa nikèl

② Remember to use acid degreaser here. Why not use alkaline degreaser, and the degreasing effect of alkaline degreaser is better than that of acid degreaser? Mainly because the graphic ink is not alkali resistant and will damage the graphic circuit, only acidic degreaser can be used before graphic electroplating.

③ Pandan pwodiksyon an, li nesesè sèlman pou kontwole konsantrasyon ak tan degrese. Konsantrasyon nan degrese se apeprè 10% ak tan an garanti yo dwe 6 minit. Yon ti tan pi long pa pral gen efè negatif; Itilize ak ranplasman likid tank la tou baze sou 15 m2 / L likid k ap travay, epi adisyon siplemantè a baze sou 100 m2 0. 5—0。 8L ；

（4） Micro etching:

Eatching Liy

① Objektif ak fonksyon: netwaye ak rache sifas kwiv la nan kous la asire fòs la lyezon ant modèl galvanoplastik kòb kwiv mete ak kwiv prensipal

② Persulfate sodyòm se sitou itilize kòm mikwo a, ak pousantaj ki estab ak inifòm coarsening ak bon lave dlo. Se konsantrasyon nan Persulfate sodyòm jeneralman kontwole nan apeprè 60 g / L ak tan an kontwole nan apeprè 20 segonn. Anplis de sa nan dwòg se 3-4 kg pou chak 100 mèt kare; Kontni Copper dwe kontwole anba a 20 g / L; Lòt antretyen ak ranplasman silenn yo se menm bagay la kòm presipitasyon kwiv mikwo korozyon.

（5） marinated

① Wòl ak objektif:

③ CP asid silfirik dwe itilize isit la;

（6） grafik kwiv plating: ke yo rele tou kwiv segondè, sikwi kwiv plating

① Objektif ak fonksyon: yo nan lòd yo satisfè chaj aktyèl la rated nan chak liy, chak liy ak twou kòb kwiv mete bezwen rive nan yon epesè sèten. Nan bi pou liy kwiv plating, kwiv twou a ak kwiv liy dwe epè nan yon epesè sèten nan tan;

② Lòt atik yo se menm bagay la tankou galvanoplastie plen

（7） Electroplated tin ① purpose and function: the purpose of graphic electroplated pure tin mainly uses pure tin as a metal resist layer to protect circuit etching;

② Likid beny lan sitou konpoze de silfat stann, asid silfirik ak aditif; Se kontni silfat stannous kontwole nan apeprè 35 g / L ak asid silfirik kontwole nan apeprè 10%; Anplis de sa nan aditif fèblan plating jeneralman complétée selon metòd la nan èdtan kiloampere oswa selon efè pwodiksyon aktyèl la; Kouran an nan fèblan electroplated jeneralman kalkile kòm 1. 5 A / kare desimèt miltipliye pa zòn nan electroplating sou plak la; Tanperati silenn fèblan an konsève nan tanperati chanm nan. Anjeneral, tanperati a pa depase 30 degre epi li sitou kontwole nan 22 degre. Se poutèt sa, akòz tanperati a wo nan sezon lete, li rekòmande enstale yon sistèm kontwòl refwadisman ak tanperati pou silenn lan fèblan;

③ Pwosesis antretyen:

Alè sipleman fèblan aditif plating selon èdtan kiloampere chak jou; Tcheke si ponp lan filtre travay nòmalman ak si gen flit lè; Netwaye baton kondiktif katod la avèk yon ranyon mouye pwòp chak 2-3 èdtan; Analize silfat stannous (yon fwa pa semèn) ak asid silfirik (yon fwa pa semèn) nan silenn fèblan regilyèman chak semèn, ajiste kontni an nan aditif fèblan fèblan nan tès selil Hall, ak sipleman ki enpòtan matyè premyè nan tan; Netwaye baton kondiktif anod ak konektè elektrik yo nan tou de bout tank la chak semèn; Elektwoliz ak aktyèl ki ba 0.2-0.5 ASD pou 6-8 èdtan chak semèn; Yo dwe tcheke sak anod la chak mwa pou domaj, epi yo dwe ranplase yon sèl ki domaje a tan; Tcheke si gen labou anod akimile nan pati anba a nan sak la anod, epi netwaye li nan tan si genyen; Filtre kontinyèlman ak nwayo kabòn pou 6-8 èdtan chak mwa, epi retire enpurte pa elektwoliz ki ba kounye a; Chak mwatye nan yon ane oswa konsa, detèmine si wi ou non gwo-echèl tretman (aktive poud kabòn) oblije selon polisyon nan tank likid; Ranplase eleman filtre ponp filtre chak de semèn;

⑨ Gwo pwosedi tretman an: A. wete anod la, retire sak anod la, netwaye sifas anod la avèk yon bwòs kwiv, lave l epi sèk li avèk dlo, mete l nan sak anod la epi mete l nan tank asid la pou sibstiti. B. tranpe sak anod la nan 10% solisyon alkalin pou 6-8 èdtan, lave li epi sèk li avèk dlo, tranpe li nan 5% asid silfirik delye, epi lave epi sèk li avèk dlo pou sibstiti; C. Transfere solisyon selil la nan selil sibstiti a epi tou dousman fonn poud lan kabòn aktive nan solisyon selil la nan pousantaj 3-5g / L. apre solisyon an fin fonn, adsorb li pou 4-6 èdtan, filtre solisyon selil la. ak 10um eleman filtre PP ak filtre èd poud nan selil la netwaye k ap travay, mete l ‘nan anod lan, pann l’ nan plak la elektwolitik, ak elektwoliz nan aktyèl ki ba nan 0.2-0.5asd dansite aktyèl pou 6-8 èdtan. D. ajiste asid silfirik nan selil la apre analiz chimik, kontni silfat stannous nan ranje opere nòmal; Add aditif plating fèblan dapre rezilta tès selil Hall yo; E. Sispann elektwoliz apre koulè sifas elektwolitik plak la inifòm; F. Tès plating OK;

④ Lè renouvle dwòg, si kantite lajan adisyon a gwo, tankou silfat stannous ak asid silfirik; Low elektwoliz aktyèl dwe fèt apre adisyon; Peye atansyon sou sekirite lè ou ajoute asid silfirik. Lè kantite asid silfirik la gwo (plis pase 10 lit), ajoute li tou dousman plizyè fwa; Sinon, tanperati beny lan ap twò wo, yo pral oksid fèblan an oksidize, epi aje likid la ap akselere.

Formula Fòmil kalkil adisyon dwòg:

Sulfat stannous (inite: kg) = (40-x) × Volim tank (L) / 1000

Sulfuric acid (in liters) = (10% – x) g / L × Tank volume (L)

Or (in liters) = (180-x) g / L × Tank volume (L) / 1840

（9 ating Nikèl plating

① Objektif ak fonksyon: se kouch nikèl kouch sitou itilize kòm kouch baryè ant kouch kwiv ak kouch lò pou anpeche difizyon mityèl lò ak kwiv epi afekte soudabilite ak lavi sèvis tablo a; An menm tan an, fè bak nan kouch nikèl tou anpil ogmante fòs mekanik nan kouch lò;

Parameters Paramèt pwosesis ki gen rapò ak plating kòb kwiv mete sou plak la tout antye: se adisyon a nan aditif nikèl plating jeneralman complétée dapre metòd la nan èdtan kiloampere, oswa kantite lajan an adisyon se sou 200ml / Kah selon efè pwodiksyon aktyèl la nan plak la; Aktyèl la nan modèl nikèl nikèl plating se jeneralman kalkile pa miltipliye 2 A / kare desimèt pa zòn nan galvanoplastik sou plak la; Tanperati silenn nikèl la konsève nan 40-55 degre, ak tanperati jeneral la se apeprè 50 degre. Se poutèt sa, silenn lan nikèl yo ta dwe ekipe ak chofaj ak sistèm kontwòl tanperati;

③ Pwosesis antretyen:

Alè sipleman nikèl aditif plating dapre èdtan kiloampere chak jou; Tcheke si ponp lan filtre travay nòmalman ak si gen flit lè; Netwaye baton kondiktif katod la avèk yon ranyon mouye pwòp chak 2-3 èdtan; Analize sa ki nan silfat nikèl (nikèl sulfamat) (yon fwa pa semèn), klori nikèl (yon fwa pa semèn) ak asid borik (yon fwa pa semèn) nan silenn kwiv la regilyèman chak semèn, ajiste kontni an nan aditif nikèl plating nan tès selil Hall. , ak konplete matyè premyè ki enpòtan yo nan tan; Netwaye baton kondiktif anodik la ak konektè elektrik yo nan tou de bout tank la chak semèn, konplete ang nikèl anodik nan panyen Titàn lan nan tan, ak elektwoliz ak aktyèl ki ba 0.2-0.5 ASD pou 6-8 èdtan; Tcheke si sak panyen an Titàn anod la domaje chak mwa, epi ranplase li nan tan; Tcheke si wi ou non labou anod akimile nan pati anba a nan panyen anod Titàn, epi netwaye li nan tan si genyen; Nwayo Kabòn te itilize pou filtraj kontinyèl pou 6-8 èdtan, ak enpurte yo te retire pa ba elektwoliz aktyèl an menm tan an; Chak mwatye nan yon ane oswa konsa, detèmine si wi ou non gwo-echèl tretman (aktive poud kabòn) oblije selon polisyon nan tank likid; Ranplase eleman filtre ponp filtre chak de semèn;

④ Gwo pwosedi tretman an: A. pran anod la, vide anod lan, netwaye anod lan, epi mete l nan barik ki chaje ak kwen nikèl la, sifas sifas kwen nikèl la ak mikwo etantan pou inifòm woz. Aprè lave epi siye, mete l nan panyen Titàn lan epi mete l nan tank asid la pou sibstiti. B. tranpe panyen an anod Titàn ak sak anod nan 10% solisyon alkalin pou 6-8 èdtan, lave epi sèk avèk dlo, ak Lè sa a, tranpe nan 5% asid silfirik delye, Lave epi sèk avèk dlo pou sibstiti; C. Transfere likid la tank nan tank la sibstiti, ajoute 1-3ml / L 30% oksijene idwojèn, kòmanse chofaj, vire sou lè brase lè tanperati a se sou 65 ℃, ak brase ak izole lè pou 2-4 èdtan; D. Fèmen lè a vibran, tou dousman fonn poud lan kabòn aktive nan solisyon an tank nan vitès la nan 3-5g / L, vire sou lè a brase apre yap divòse a fini, epi kenbe li cho pou 2-4 èdtan; E. Fèmen lè a vibran, chofe epi kite poud lan kabòn aktive rezoud nan pati anba a nan tank la tou dousman; F. Lè tanperati a desann nan apeprè 40 ℃, sèvi ak 10um eleman filtre PP ak filtre èd poud filtre likid la tank nan tank la netwaye k ap travay, vire sou lè vibran, mete nan anod la, pann li nan plak la elektwolitik, ak laprès 0. 2-0。 5asd aktyèl dansite ki ba elektwoliz aktyèl pou 6-8 èdtan, G. apre analiz chimik, ajiste kontni an nan silfat nikèl oswa nikèl sulfamat, klori nikèl ak asid borik nan tank la nan seri a opere nòmal; Ajoute aditif nikèl plating dapre rezilta tès selil Hall yo; H. Apre koulè a nan sifas la plak elektwolitik se inifòm, sispann elektwoliz, ak Lè sa a, fè tretman elektwolitik selon dansite aktyèl la nan 1-1.5 ASD pou 10-20 minit yo sa aktive anod la; 1. Tès plating OK;

⑤ Lè sipleman dwòg, si kantite lajan adisyon a gwo, tankou sulfat nikèl oswa sulfamat nikèl ak klori nikèl, li dwe elèktrolize ak aktyèl ki ba apre adisyon; Lè w ajoute asid borik, mete asid borik ki ajoute nan yon sak anod pwòp epi pann li nan silenn nikèl la. Li pa ka dirèkteman ajoute nan tank la;

⑥ Apre nikèl plating, li rekòmande pou ajoute yon lave dlo rekiperasyon epi louvri silenn lan ak dlo pi, ki ka itilize pou konplete nivo likid volatilize pa chofaj nan silenn nikèl la. Apre lave dlo rekiperasyon, li konekte ak segondè rense kontrekouran;

Formula Fòmil kalkil adisyon dwòg:

Nikèl silfat (kg) = (280-x) × Volim tank (L) / 1000

Klori nikèl (kg) = (45-x) × Volim tank (L) / 1000

Asid borik (kg) = (45-x) × Volim tank (L) / 1000

（10） galvanoplastik lò: li divize an galvanoplastie difisil lò (alyaj lò) ak dlo lò (pi bon kalite lò) pwosesis. Konpozisyon an nan plating lò difisil se fondamantalman menm jan ak sa yo ki nan beny lò mou, men gen kèk metal tras tankou nikèl, Cobalt oswa fè nan beny lan lò difisil;

① Objektif ak fonksyon: tankou yon metal presye, lò gen bon soudabilite, rezistans oksidasyon, rezistans korozyon, rezistans kontak ki ba ak rezistans mete